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| ・半導体デバイス製造関連装置 （マスクアライナー） （スピンナー、スプレーコーター） 他フォトリソグラフィ関連装置 ・MEMS・NEMS研究開発支援ツール ソフトリソ・ナノインプリント関連 （マイクロコンタクトプリンター） （光ナノインプリント装置） ・精密アライメント位置決め装置・治具 （試料仮止め装置等接合装置補助機器） 研究開発支援装置の開発製造承ります |
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| お知らせ | カスタム装置の製作 仕様書作成・お見積り承ります |
| イベント情報 | 新型マイクロコンタクトプリンター MP200 大型試料・スタンプ対応 産総研アイディア 泡噛み防止機構 第21回マイクロマシン／ＭＥＭＳ展 2010年7月28 日（水）〜30 日（金） 東京ビッグサイト 10:00〜17:00 東5・6ホール ブース D-10 MEMS製造装置エリア 展示会サイト当社ページ【リンク】 |
| ニュース | 赤外線透過観察 IR顕微鏡搭載 試料仮止め装置 AMA100n / AMA100t φ6インチ対応 両面同時露光アライナー BS620 スプレーコーターDC110、大型DC210 PDFカタログを追加 光ナノインプリント装置 ImpFlex（インプレックス） ImpFlex Essential（エッセンシャル） PDFカタログを追加  本製品は、（独）産業技術総合研究所の 研究成果を活用しています。 |
| 展示装置 | 展示装置は不定期に入れ替えます。 ご来社の際は予めご連絡ください。 |
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新型両面同時露光アライナー BS425 / BS620  赤外透過観察仮止め装置 AMA100n  DeepUV マスクアライナー ES20t さらに高精度になった スプレーコーター DC110 ローコスト φ4インチ対応投影露光装置 PR100 フィルム試料仮止め装置 MA100 陽極接合装置用仮止め装置 MA600 高解像度顕微鏡搭載タイプ φ8インチ試料対応アライナー LA810 φ6インチ対応 裏面観察アライナー BA160 陽極接合の仮止め機能付き 裏面観察アライナー BAm100 マイクロコンタクトプリンター PA400s サーボモーターでコンタクト制御 ダイレクト圧力センス方式 ダブルスタンプホルダ、ダブルステージ 大型マイクロコンタクトプリンター PA600 研究室で簡単にエマルジョンマスクを 製作できるマスク作製機 MM605 3次元形状（段差、距離、面積）などを非接触で測定 3次元測定器 ARVIS-20N 斜光2灯裏面観察アライナー BA420 高精度高出力UV光源を２基搭載 裏面アライメントで試料の表裏両面にパターン露光  |
| 重要なお知らせ | 特にありません。 |
