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技術開発型企業
ナノテック

Here is Nanometric Technology Inc. site  (Japanese only)

access count アクセスカウンタ

・半導体デバイス製造関連装置
(マスクアライナー)
(スプレーコーター、スピンコーター)
その他 フォトリソグラフィ関連装置

・MEMS・NEMS研究開発支援ツール
ソフトリソ・ナノインプリント関連
(マイクロコンタクトプリンター)
(光ナノインプリント装置)

・精密アライメント位置決め装置・治具
(試料仮止め装置等接合装置補助機器)

研究開発支援装置の開発製造承ります

   

BS620
φ6インチ対応 両面同時露光マスクアライナー

新型 BA100i
φ4インチ対応 試料吹上機能付き裏面観察マスクアライナー(両面アライナー)



トピックス


お知らせ カスタム装置の製作
仕様書作成・お見積り承ります
イベント情報
第23回 マイクロマシン/MEMS展に出展します



2012年7月11日(水)から13日(金)まで、
東京ビッグサイトで開催いたします。

ニュース

製品の
お問い合わせ

株式会社 三明
まで


バキュームコンタクト対応アライナー
デスクトップタイプ、φ4インチ試料対応

裏面観察アライナー
BA100iに試料吹上コンタクト機能が
付きました

ローコスト
セミオート連続露光マスクアライナー
ES20カスタム装置
試料吹上コンタクト
(アライメントはできません)

マイクロコンタクトプリンター MP200
大型φ8インチ試料・スタンプ対応
産総研アイディア 泡噛み防止機構

赤外線透過観察
IR顕微鏡搭載 試料仮止め装置
AMA100n / AMA100t

赤外線透過観察
IR顕微鏡搭載マスクアライナー
ES20-IR

φ6インチ対応 両面同時露光アライナー
BS620

スプレーコーターDC110、大型DC210
PDFカタログを追加


光ナノインプリント装置
ImpFlex(インプレックス)
ImpFlex Essential(エッセンシャル)
PDFカタログを追加


本製品は、(独)産業技術総合研究所の
研究成果を活用しています。

展示装置
展示装置は不定期に入れ替えます。
ご来社の際は予めご連絡ください。

新製品


製品紹介
新型 BA100i
試料吹上機能付き


両面同時露光アライナー
BS425 / BS620


赤外透過観察仮止め装置
AMA100n


DeepUV マスクアライナー ES20t

さらに高精度になった スプレーコーター DC110

ローコスト
φ4インチ対応投影露光装置 PR100

フィルム試料仮止め装置 MA100

陽極接合装置用仮止め装置 MA600

高解像度顕微鏡搭載タイプ
φ8インチ試料対応アライナー LA810

φ6インチ対応 裏面観察アライナー BA160

陽極接合の仮止め機能付き
裏面観察アライナー BAm100

マイクロコンタクトプリンター PA400s
サーボモーターでコンタクト制御
ダイレクト圧力センス方式

ダブルスタンプホルダ、ダブルステージ
大型マイクロコンタクトプリンター PA600

研究室で簡単にエマルジョンマスクを
製作できるマスク作製機 MM605

3次元形状(段差、距離、面積)などを非接触で測定
3次元測定器 ARVIS-20N

斜光2灯裏面観察アライナー BA420
高精度高出力UV光源を2基搭載
裏面アライメントで試料の表裏両面にパターン露光



その他のお知らせ 特にありません。